스크린 세미컨덕터 솔루션즈(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd., 이하 ‘스크린’)가 2018년 4월 20일 열린 12인치 실리콘(Si) 웨이퍼를 위한 대량 전자빔 직접쓰기 석판인쇄(massively E-beam direct write lithography, MEBDW) 기술 개발(MEB12) 프로그램 출범 기념식에서 대만 국립칭화대학교(NTHU)와 동 사업을 위한 양해각서(MoU)를 체결했다.

국립칭화대학교는 각국 반도체 장비 및 소프트웨어 공급업체들과 대량전자빔 직접쓰기 석판인쇄(MEBDW) 공정 기술을 혁신하는 반도체 산업계-대학 연합을 최초로 결성하여 첨단 무마스크(maskless) 석판인쇄 기술을 개발할 예정이다. MEBDW석판인쇄 기술은 ‘칩상의 보안(on-chip security)’을 가능하게 해 대만이 인터넷, AI(인공지능), 전자 결제, 자동차 칩의 정보 보안을 유지할 수 있게 하는 고유의 ID(신원확인 암호)가 부여된 보안 칩을 세계 최초로 개발하여 시험 생산할 수 있게 된다.

MEB12프로그램 참여 업체는 세계 유일의 상용MEBDW석판인쇄 장비 제조업체인 네덜란드의 매퍼 리소그래피(Mapper Lithography B.V.)와 미국의 디자인 소프트웨어 업체 시놉시스(Synopsys, Inc.) 등이다. 스크린은 MEB12프로그램을 위해 DUO석판인쇄 코트/개발 트랙(lithography coat/develop track) 시스템과 SU-3200단일 웨이퍼 세척 시스템(cleaning system)을 지원한다.

MEB12 프로젝트의 주도자 중 한 사람인 국립칭화대학교 전기공학과 교수 겸 나노기술, 소재과학 및 미세 체계 센터(Center for Nanotechnology, Materials Science and Microsystems) 소장인 치유 포웬(Po-Wen Chiu) 교수는 “이 프로젝트는 대만의 강력한 반도체 제조부문 진출 역량을 바탕으로 세계 반도체 대기업들과 연합을 결성하여 국립칭화대학교 내에 최첨단 상용 12인치 MEBDW 석판인쇄 공정 라인을 설치함으로써 세계 최초로 독보적인 연구 개발(R&D) 능력을 갖춘 대학이 되게 하는 성공 사례”라고 밝혔다.

수하라 타다히로(Tadahiro Suhara) 스크린 세미컨덕터 솔루션즈 사장은 “MEB12연합을 추진하는 대만 국립칭화대학교를 지원하게 되어 매우 기쁘다”며 “이는 혁신적 IoT(사물인터넷) 애플리케이션을 위한 스크린의 장비 기술 및 자원의 가치를 입증하는 증거”라고 말했다.

MEB12연합은 이웃 아시아 국가들의 반도체 IC(집적회로) 디자인 및 제조 업체들이 이 연합에 회원으로 참여하여 혁신적 칩을 공동 개발하도록 할 방침이다. 치유 교수는 “이 연합은 보안 칩을 개발할 뿐 아니라 포토마스크(photomask) 사용으로 인해 증가하는 비용을 크게 줄임으로써 스타트업 IC디자인 회사들이 생존할 수 있게 하는 무마스크 IC디자인 검증 플랫폼 및 고해상도와 그래픽 유연성이 높은 틈새 시장 애플리케이션을 갖춘 저비용 파운드리 서비스로 활용할 수 있을 것”이라고 말했다.

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